东京应化工业等厂商无法达到要求，也就意味着三星电子未来在生产3D NAND闪存时，仍将采用东进世美肯的光刻胶，已经独家供应了近10年的东进世美肯，未来一段时间仍将是独家供应商。

光刻胶作为集成电路产业的关键材料正迎来高速发展，咨询机构 TECHCET 预计，2022 年全球半导体光刻胶市场规模将达到 22 亿美元，同比增长约 7%。然而国内半导体光刻胶市场仍被 TOK(东京应化)、

TECHCET 还预测，除光刻胶外，光刻所用辅助材料市场到 2026 年也将维持 5-6% 的复合年化增速。值得一提的是，TECHCET 认为中国厂商正在光刻材料领域持续发力，将在未来几年对这一市场产生实质

2019 年日本出台出口限制措施后，东进世美肯开始利用自己的基础设施，如现有的氟化氩曝光机和比利时半导体研究所(IMEC)的 EUV 设备，将 EUV 光刻胶本土化。同时，三星提供了 EUV 测试环境并且

晶瑞电材指出，公司 3 万吨电子级硫酸产线已于今年上半年顺利通车，经试生产调试，产品金属杂质含量低于 10ppt，达到 G5 级水平，品质已达全球同行业第一梯队水平，产品技术指标可以履盖

关于公司的主导产品，晶瑞电材表示，公司的主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业，主要应用到下游电

据了解，住友化学 ArF 用光刻胶目前仅由日本大阪工厂生产，由于在性能、品质上具有优势，全球市占率高，而韩国的 Dongwoo Fine-Chem 工厂此前为公司 i 线、KrF 用光刻胶生产据点，拥有 20 年以上

根据集微网统计，我国晶圆代工厂商在未来的扩产规划将会十分巨大，8寸的产能将在未来实现从当前74万片 月增长至135万片 月，12寸产能将从当前38 9万片 月增长至未来的145 4万片 月。产能的大

对于三星 5nm 工艺技术相信大家都已经很熟悉了，今年安卓手机市场中顶级芯片高通骁龙 888 正出自三星 5nm 工艺。如果得到 Inpria 无机光刻胶的帮助，今年年底的 5nm 工艺技术势必将得到一次升

上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司”)自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对

目前看起来三星似乎取得了突破性进展，8月8日，据外媒报道，日本近日首次批准了向韩国出口EUV光刻胶，这种材料用于芯片生产，帮助厂商在硅晶上绘制芯片，该材料对于三星而言至关重要。

摘要公司作为全球光刻胶专用化学品龙头,深耕PCB、LCD和半导体领域,通过对关键原料及配方技术的深刻理解,成功进入油墨、涂料等新应用场景,有