Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0 7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度

东方晶源电子束量测检测设备，依托所承担的国家科技重大专项(02专项)——电子束硅片图形缺陷检测设备研发与产业化项目，经过数年攻坚克难，突破多项核心关键技术，从零部件到整机设计

东方晶源首台 8 英寸关键尺寸量测设备(型号：SEpA-c300)基于东方晶源 12 英寸关键尺寸量测设备的技术积累，面向 90nm 以上技术节点的成熟工艺。具有对标 12 英寸主流设备的成像分辨率、百微米